지식재산처[지식재산처 제공. 재판매 및 DB 금지][지식재산처 제공. 재판매 및 DB 금지]지식재산처는 우리 기업의 고품질 특허 조기 확보를 돕기 위해 반도체 분야의 특허 판단 기준을 제시한 ‘반도체 분야 특허 심사 실무가이드’를 제정, 배포한다고 오늘(9일) 밝혔습니다.
반도체 산업이 극자외선(EUV) 노광공정, 비정질 탄소 하드마스크, 고대역폭메모리(HBM), 차세대 인공지능(AI) 반도체 등 미세화·집적화·고속화가 급격히 진행되고 있어 산업 특성을 반영한 특허심사가 필요하다는 업계 의견을 반영한 것입니다.
지재처는 특허성 판단에 대한 명확한 기준 제시가 필요하다는 반도체 현장의 의견을 반영해 실제 심사사례 중 다빈도 사례를 발굴 엄선하고, 특허성 판단 조문별·유형별로 구분해 ‘반도체 분야 특허 심사 실무가이드’를 제정했습니다.
심사 실무가이드는 ▲ 발명의 설명 기재 요건 ▲ 청구범위 기재 요건 ▲ 진보성 등 특허 요건 등 3개 핵심 사항에 대한 구체적인 특허성 판단 기준을 담았습니다.
3개 핵심 사항별로 자주 발생하는 유형을 도출하고, 각 유형의 실제 반도체 분야 심사사례를 선별해 판단 방법을 제시했습니다.
지재처는 반도체 분야 특허 심사 실무가이드를 자체 누리집을 통해 배포하고, 반도체 분야 산·학·연의 이해도를 높이기 위해 다음 달 중 반도체 지식재산(IP) 협의체를 대상으로 설명회를 개최할 예정입니다.
김희태 반도체심사추진단장은 “특허 심사 실무가이드는 심사의 일관성을 높이고 우리 반도체 기업이 고품질 특허를 확보하는 데 많은 도움이 될 것”이라고 말했습니다.
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이은파(sw21@yna.co.kr)