대전법원 전경[연합뉴스 제공][연합뉴스 제공]반도체 웨이퍼 연마(CMP) 관련 국가 핵심 기술과 영업 비밀을 중국에 유출한 혐의로 기소된 국내 대기업·중견기업의 전·현직 직원들에게 징역형이 선고됐습니다.
대전지방법원은 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 국내 모 기업 전 연구원 59살 A씨에게 징역 2년6개월을 선고했습니다. 함께 기소된 공범 4명에게는 징역 6개월∼2년에 집행유예 1∼3년을, 나머지 한 명은 벌금 500만원을 선고했습니다.
이들은 컴퓨터와 업무용 휴대전화로 회사 내부망에 접속해 반도체 웨이퍼 연마 공정도 등 회사 기밀자료를 열람하면서 개인 휴대전화로 촬영하는 수법 등으로 자료를 확보하고 중국 업체에 유출했습니다.
A씨는 2018년 임원 승진에 탈락하자 2019년 6월 중국 업체와 반도체 웨이퍼 연마제 제조사업을 동업하기로 한 뒤 범행했으며, 다른 회사 연구원인 일부 공범들을 포섭해 중국으로 이직시키기도 한 것으로 조사됐습니다.
재판부는 “피해 회사들이 기술 연구·개발에 투입한 큰 노력과 비용을 헛되게 하고, 관련 분야의 건전한 경쟁과 거래 질서를 심각하게 저해해 국가 산업 경쟁력에 악영향을 주는 중한 범죄”라고 판시했습니다.
#반도체 #웨이퍼 #연마 #산업스파이 #산업 #기밀 #유출
연합뉴스TV 기사문의 및 제보 : 카톡/라인 jebo23
천재상(genius@yna.co.kr)